Timofeev, F. N.Bozkurt, K.Gure, M.Aydınlı, AtillaSüzer, ŞefikEllialtioglu, R.Turkoglu, K.2019-02-142019-02-141994-07-260360-120Xhttp://hdl.handle.net/11693/49533RussianInvestigation of thin films SiO2 obtained by low temperature plasmachemical depositionИсследование тонких пленок SiO2, полученных методом низкотемпературного плазмохимического осажденияArticle